PhotoStress® è un metodo ottico per l'analisi delle deformazioni e tensioni superficiali delle strutture durante prove statiche o dinamiche basato sul principio fotoelastico.
Il metodo consiste nel ricoprire la superficie con dei rivestimenti plastici sensibili alle deformazioni. Quando la struttura viene sottoposta ad un carico di prova, la deformazione della struttura si trasmette al rivestimento.
Osservando il rivestimento, illuminato con una luce polarizzata, attraverso un polaroid, si notano delle frange colorate. In base ad un codice di colori è possibile sapere quali sono le zone maggiormente deformate. Con uno strumento dedicato come il polariscopio LF/Z-2 è possibile misurare con precisione le deformazioni.
da 0% a 150% di allungamento (in base al rivestimento)
≈10 μs (per rivestimenti > 3-mm)
fino a 3 metri
Vista, Windows 7