Nelle macchine litografiche la qualità dell'immagine proiettata sul wafer dipende dalla posizione degli elementi del sistema di lenti. Durante l'esposizione l'obiettivo è soggetto a movimenti dinamici rapidi, a dilatazioni termiche e alle vibrazioni trasmesse dagli stage in movimento: per compensare questi effetti gli elementi ottici vengono regolati da attuatori, e la regolazione funziona solo se la posizione reale di ciascun elemento è nota in ogni istante e su più gradi di libertà.
Per questo si utilizzano sensori di spostamento induttivi a correnti parassite della serie eddyNCDT, che misurano senza contatto la posizione degli elementi della lente e ne rilevano il movimento fino a 6 gradi di libertà. L'alta risposta in frequenza consente di seguire anche i movimenti più dinamici del sistema ottico. I sensori misurano sulle parti metalliche delle montature, e la configurazione viene definita in base al sistema di lenti specifico.
La misura multiasse permette di correggere in tempo reale la posizione degli elementi ottici, mantenendo la precisione di imaging per l'intero ciclo di esposizione. L'assenza di contatto evita di introdurre vibrazioni e usura su un componente particolarmente sensibile a qualsiasi disturbo, e la stabilità della misura nel tempo riduce la necessità di ricalibrazioni. Nello stesso sistema ottico si esegue anche il controllo dell'inclinazione dei sistemi di lenti.
