Il metodo più diffuso usa due sensori di distanza capacitivi posti uno sopra e uno sotto il wafer: la somma delle due distanze fornisce lo spessore anche se il wafer non è perfettamente centrato, e dalla stessa misura si ricava la deflessione. Per l’uniformità su tutta la superficie (TTV, bow e warp) si scansiona il wafer con sensori confocali. Quando serve una precisione ancora maggiore si impiegano interferometri a luce bianca.

























