Il controllo della temperatura nella litografia ottica è un aspetto cruciale nella produzione di semiconduttori, poiché influisce direttamente sull’uniformità dello strato di fotoresist e sulla precisione del pattern inciso. Variazioni anche minime possono causare difetti nello spessore o nella modellazione, compromettendo qualità, resa e affidabilità del dispositivo finale. Per affrontare queste criticità, è fondamentale una misurazione senza contatto, precisa e puntuale della temperatura superficiale del wafer.
I sensori a infrarossi CSmicro offrono una soluzione ideale grazie al loro design compatto, adatto all’integrazione in ambienti di produzione ristretti. Operano nell’intervallo spettrale a onde lunghe (8–14 µm) e sono capaci di monitorare temperature da -40 °C a 1030 °C. La testa miniaturizzata consente un posizionamento diretto e perpendicolare alla superficie del wafer, garantendo un controllo accurato durante tutte le fasi della litografia.
Il loro tempo di risposta rapido e la trasmissione del segnale analogico al PLC permettono un feedback in tempo reale, mantenendo le condizioni termiche stabili e sotto controllo. Questa tecnologia migliora la produttività, riduce i difetti legati a fluttuazioni termiche e assicura l’uniformità del processo. I CSmicro si distinguono infine per la loro affidabilità, precisione e facilità d’integrazione nei sistemi esistenti.
