Nei sistemi di lenti delle macchine litografiche, l'inclinazione deve essere misurata con precisione nanometrica per garantire una proiezione riproducibile e un'esposizione corretta del wafer. La superficie disponibile per la misura non è sempre la stessa: a seconda della configurazione può essere il supporto metallico del portaobiettivo oppure la superficie in vetro della lente stessa.
Quando la misura può avvenire su una superficie metallica, si impiegano sensori capacitivi capaNCDT, che misurano senza contatto l'inclinazione con risoluzione nanometrica.
Quando invece la misura deve avvenire direttamente sulla lente - superficie in vetro, non conduttiva - si utilizzano sensori cromatici confocali: a differenza dei sensori a principio elettromagnetico come il capacitivo, funzionano in modo affidabile anche su vetro, rilevando inclinazione e movimenti dinamici della lente con la stessa precisione nanometrica.
La disponibilità di due tecnologie alternative consente di scegliere il sensore più adatto in base al punto di misura accessibile, senza compromettere la precisione richiesta dal processo di esposizione. Entrambe le soluzioni sono senza contatto, eliminando l'usura e garantendo stabilità nel tempo.
