Nelle macchine litografiche per la produzione di semiconduttori, il wafer stage deve essere posizionato con precisione nanometrica per garantire l'allineamento rispetto al sistema ottico. L'ambiente di lavoro è tipicamente sotto vuoto spinto, escludendo molte tecnologie convenzionali.
Per misurare senza contatto questi movimenti si impiegano sensori capacitivi capaNCDT o, in alternativa, sensori induttivi a correnti parassite eddyNCDT: entrambe le tecnologie raggiungono risoluzioni nanometriche, sono compatibili con l'ambiente sotto vuoto e insensibili ai campi elettromagnetici di motori e attuatori. Il design triassiale dei sensori capacitivi consente di rilevare più assi di movimento con una sola configurazione di montaggio.
Quando è richiesta una misura assoluta sui tre assi XYZ con accelerazioni molto elevate, si utilizza invece un interferometro a luce bianca interferoMETER IMS5600, anch'esso disponibile con testine idonee al vuoto e insensibile a forti campi magnetici.
Tutte queste tecnologie eliminano il contatto meccanico con lo stage, evitando l'usura e garantendo stabilità nel tempo per mantenere l'allineamento durante l'esposizione. La scelta tra loro dipende dalla configurazione della macchina e dal numero di assi da monitorare simultaneamente.
