Il controllo preciso della temperatura è essenziale nei processi di deposizione chimica da vapore (CVD), fondamentali nella produzione di semiconduttori e materiali avanzati. Tuttavia, le elevate temperature (spesso superiori a 900 °C), le condizioni di vuoto e la scarsa visibilità rendono complessa una misurazione termica affidabile e senza contatto. In questo contesto si impiega il pirometro monocolore CTvideo 3M. Dotato di un sistema di puntamento video e laser brevettato, consente un allineamento preciso anche in ambienti con visibilità limitata, migliorando l'accuratezza del monitoraggio termico.
Questo pirometro è progettato per funzionare in un ampio campo di temperature, da 50 °C a 1800 °C, e utilizza una lunghezza d'onda corta (2,3 µm), adatta ai materiali ad alta emissività impiegati nei processi CVD. La sua risoluzione ottica fino a 300:1 consente misurazioni su superfici ridotte o complesse. Grazie alla misurazione stabile e ripetibile è possibile mantenere una crescita uniforme dei film sottili, riducendo difetti, rilavorazioni e sprechi.
Il software Compact Connect supporta il monitoraggio remoto, la registrazione dei dati e la configurazione, offrendo un controllo completo del processo. L'integrazione del CTvideo 3M nei sistemi CVD migliora così la qualità del materiale e l'efficienza produttiva. Lo stesso processo di deposizione si controlla anche nella misurazione della temperatura nella crescita del polisilicio.
