Nel processo di produzione del polisilicio, un controllo termico preciso è essenziale per garantire la qualità e la purezza del materiale. Durante la deposizione CVD, le barre di silicio devono essere mantenute a temperature elevate e costanti (fino a 1150?°C), ma il monitoraggio è complicato dall’ambiente ostile del reattore, dall’emissività variabile del silicio e dall’impossibilità di usare sensori a contatto. In questo contesto, i pirometri a infrarossi rappresentano una soluzione ottimale, poiché permettono misurazioni senza contatto, affidabili, resistenti alle alte temperature e agli agenti chimici aggressivi.
In particolare, i pirometri a fibra ottica con tecnologia a due colori (come il CTratio) risultano ideali: offrono accuratezza anche con superfici parzialmente visibili e compensano automaticamente le variazioni di emissività. La testa di rilevamento passiva può essere installata in aree difficili e pericolose, lasciando l’elettronica fuori dal reattore. Questo permette un monitoraggio continuo e sicuro, riducendo difetti strutturali e il rischio di surriscaldamento.
